自己轉移石墨烯薄膜的制備流程
石墨烯作為一種新型戰(zhàn)略性重要材料,可應用于科研、芯片電路電子、新能源、新材料、生物技術等諸多重要行業(yè),特別是科研級別的石墨烯薄膜,需要極穩(wěn)定極高品質的石墨烯,這就要求我們能從常見的基底石墨烯的基礎上,刻蝕掉銅基底得到石墨烯/保護層薄膜,然后再將石墨烯和起保護作用的薄膜轉移至“懸空基底”上,用戶拿到產品后只需將產品在去離子水中輕輕釋放就可得到可直接轉移至多種基底的自己轉移石墨烯薄膜。

本文介紹自己轉移石墨烯薄膜工藝就以“泡-取”式石墨烯為基礎,以微晶科技濕法轉移方法為例,介紹使用離子蝕刻劑(如過硫酸銨水溶液)來溶解生長基底,然后將石墨烯從液體清潔溶劑(通常是去離子水)轉移到目標襯底而不干燥。各種支撐層/基底層/保護層用于實現石墨烯的清潔和無殘留轉移。濕法轉移,就是以微晶科技“泡-取”式石墨烯為基礎獲取自己轉移石墨烯薄膜的工藝,目前是較常見和較普及的轉移石墨烯薄膜的方法,以自己轉移石墨烯薄膜的工藝的成功率高、品質穩(wěn)定、可靠,也是降低成本、廣泛推廣應用的一個重要途徑;此方法還能較大限度地降低操作程序與數量,減少殘留物和對轉移的石墨烯薄膜的損壞。


標簽: