一：《光學(xué)晶片清洗工藝》

二：《化學(xué)鍍工藝》

三：《衍射光學(xué)器件的原理》

四：《硅表面清潔》

五：《衍射光學(xué)元件離子束蝕刻工藝》

六：《光子帶隙晶體制造工藝》

七：《微納光學(xué)加工》

八：《硅片清洗技術(shù)》

九：《FSI清洗機》

十：《InGaP和GaAs制作工藝》

十一：《自動供酸系統(tǒng)設(shè)備》

十二：《GaN的濕化學(xué)》

十三：《離子注入機》

十四：《GaN和SiC晶體管的區(qū)別》

十五：《一種流速測量裝置》

十六：《刻蝕制程工藝》

十七：《光阻清洗劑》

十八：《掩膜清潔技術(shù)之消除顆粒》

十九：《甩干機操作說明》

二十：《濕法刻蝕工藝》

二十一：《光學(xué)材料簡介》

二十二：《低溫等離子體沉積工藝》

二十三：《黃光制程詳解》

二十四：《氮化鎵效應(yīng)工藝》

二十五：《硫酸生產(chǎn)工藝資料》

二十六：《氮化鋁蝕刻工藝》

二十七：《硝酸-安全資料表》

二十八：《光刻膠反應(yīng)剝離機理研究》

二十九：《光學(xué)玻璃資料》

三十：《氮化鎵晶體管在電力中的應(yīng)用》