書籍：《炬豐科技-半導體工藝》

文章：硅表面的原子清潔

編號：JFKJ-21-144

作者：炬豐科技

發(fā)明背景

? 電子電路的功能和復雜性隨著時間的增長，藝術(shù)家們面臨著越來越多的挑戰(zhàn)提供更好表現(xiàn)的途徑。主要的伴侶微電子學的核心是硅，或者更廣泛地說，Si基礎(chǔ)材料。一種重要的基于基址的材料微電子文章全部詳情：壹叁叁伍捌零陸肆叁叁叁學是硅鍺合金:硅鍺。用“x”表示鍺的分數(shù)。在許多先進的半導體電路，不同的元件。這樣的如P型或N型器件，三維器件，可能是光學器件，在它們的要求上可能有這樣的變化在一種材料中加工它們妥協(xié)的表現(xiàn)。通常需要存放高質(zhì)量的材料，經(jīng)常是不同種類的材料，在半導體結(jié)構(gòu)的制造過程中。對于沉積高質(zhì)量的材料層，一個典型的需要原子清潔沉淀物所附著的表面它可以發(fā)生。藝術(shù)中遇到的一個問題是原子清潔的硅表面是非常困難的，而且清洗硅表面通常需要高溫。如何在任何時候，都有一個優(yōu)勢，就是能夠獲得一個干凈的Si表面溫度較低，在這種溫度下無害發(fā)生在那些已經(jīng)構(gòu)造的結(jié)構(gòu)時一種新的沉積材料。

本文講述了圖紙的簡要說明，發(fā)明的詳細說明等問題

結(jié)論???略