傳統(tǒng)芯片制造是需要光刻機(jī)來實(shí)現(xiàn)的，全球范圍內(nèi)能夠生產(chǎn)光刻機(jī)的廠商并不多，其中能夠生產(chǎn)EUV光刻機(jī)的廠商卻只有荷蘭ASML一家。所以尋求替代光刻機(jī)制造芯片的方法，也開始慢慢的浮出水面。佳能最近開始銷售一款名為FPA-1200NZ2C的芯片生產(chǎn)設(shè)備，這標(biāo)志著該公司在半導(dǎo)體領(lǐng)域采用了一種不同于傳統(tǒng)光刻技術(shù)的創(chuàng)新方法，被稱為納米印刷。這項(xiàng)技術(shù)的突破意味著能夠制造5納米節(jié)點(diǎn)的芯片，而無需依賴復(fù)雜且昂貴的極紫外光刻機(jī)。佳能與存儲(chǔ)芯片制造商鎧俠合作，研發(fā)了芯片納米印刷技術(shù)。該技術(shù)旨在推動(dòng)半導(dǎo)體制程進(jìn)一步縮小至5納米，而無需使用EUV光刻機(jī)。 佳能公司近日宣布，其已經(jīng)開始銷售基于納米印刷技術(shù)的芯片生產(chǎn)設(shè)備FPA-1200NZ2C。佳能表示，該設(shè)備采用不同于復(fù)雜光刻技術(shù)的方案，可以制造5納米芯片。據(jù)報(bào)道，在半導(dǎo)體制程技術(shù)進(jìn)入5納米節(jié)點(diǎn)之后，EUV極紫外光刻機(jī)已經(jīng)成為了不可或缺的關(guān)鍵設(shè)備。但是，因?yàn)镋UV光刻機(jī)造價(jià)高昂，每臺(tái)價(jià)格超過1億美元，而且EUV光刻機(jī)僅荷蘭ASML一家產(chǎn)生能夠供應(yīng)，且產(chǎn)能有限，這使得芯片的生產(chǎn)成本大幅升高。為此，從2017 年開始，半導(dǎo)體設(shè)備廠佳能就與存儲(chǔ)芯片大廠鎧俠，以及光罩等半導(dǎo)體零組件制造商大日本印刷株式會(huì)社合作，在日本三重縣四日市的鎧俠工廠內(nèi)研發(fā)基于納米壓印 的量產(chǎn)技術(shù)，可以不使用EUV光刻機(jī)，就能使制程技術(shù)推進(jìn)到5nm。